ASML столкнулась с резким ростом спроса на оборудование для выпуска чипов, из-за чего клиенты уже бронируют производственные мощности на 2029 и 2030 годы.
Проект Terafab Илона Маска может получить литографическое оборудование раньше завершения строительства завода, запуск которого намечен на конец 2029 года.
ASML повышает на 10 % цены на все комплектующие для литографического оборудования с января 2027 года, что затронет интересы Samsung и SK hynix.
Компании ASML и Carl Zeiss приступили к разработке литографической системы Hyper NA, которая позволит печатать элементы размером около 5 нм и повысит разрешение более чем на треть.
ASML и ZEISS планируют выпустить литографические системы Hyper NA EUV с апертурой 0,75 и разрешением 5 нм в течение 10 лет, назвав малую глубину резкости главным техническим барьером.
ASML и Carl Zeiss разрабатывают литографию нового поколения Hyper NA, которая позволит уменьшить элементы чипов более чем на 38 процентов в ближайшие десять лет.
Китайские производители микросхем накопили 343 литографические установки ASML, потратив на импорт более $13 млрд в 2024–2025 годах для выпуска 7-нм чипов.
Китайские компании закупили более 340 иммерсионных DUV-литографов ASML, потратив свыше $13 миллиардов на развитие собственного производства 7-нм чипов.
Компания ASML отчиталась о нулевой выручке в Европе по итогам первой половины 2026 года из-за отсутствия инвестиций в строительство новых полупроводниковых фабрик.
Глава ASML Кристоф Фуке предупредил, что экспортные ограничения на оборудование для выпуска чипов могут ускорить создание собственной производственной базы в Китае.
Компания ASML заявила об отсутствии продаж оборудования в Европе в первой половине 2026 года из-за нехватки новых производственных площадок.
Компания ASML сообщила об отсутствии продаж литографических систем в Европе, объясняя это нехваткой инвестиций и отсутствием новых заводов по производству чипов в регионе.
Компания ASML прекратила продажи оборудования для производства чипов в Европе из-за отсутствия новых заводов и регуляторных сложностей в регионе.
Компания ASML получила лишь 1,6% от своей выручки в размере €32,7 млрд в Европе по итогам 2025 года, что подчеркивает высокую зависимость производителя от азиатских рынков.
Компания ASML делает ставку на развитие лазерно-плазменных источников для EUV-литографии, планируя достичь мощности 1000 Вт и не считая лазеры на свободных электронах готовой альтернативой.
Генеральный директор Nvidia Дженсен Хуанг ожидает, что Китай сможет наладить производство чипов по передовым технологиям к 2030 году, несмотря на ограничения на поставки оборудования.
Генеральный директор Nvidia Дженсен Хуанг ожидает, что Китай создаст собственное передовое литографическое оборудование к 2030 году, снизив зависимость от зарубежных поставок.
Компания ASML полностью распродала квоты на производство EUV-сканеров до конца 2027 года и строит новый завод для расширения мощностей.
Intel, Samsung и TSMC совместно с ASML работают над внедрением фотошаблонов 6x12 дюймов для литографии High-NA EUV, чтобы избежать «сшивки» слоев при производстве крупных чипов.
ASML планирует внедрить 12-дюймовые фотошаблоны для литографии High-NA EUV к 2033 году, что повысит эффективность производства на 40 процентов и позволит выпускать более крупные чипы.
