Нидерландская компания ASML совместно с немецким производителем оптики Carl Zeiss начала разработку литографической системы нового поколения, получившей название Hyper NA. Проект находится на ранней стадии, и окончательное решение о запуске серийного производства оборудования пока не принято.
По оценкам специалистов, на создание технологии может потребоваться около десяти лет. Новая система призвана превзойти возможности текущих установок с высокой числовой апертурой (High-NA EUV), обеспечивая формирование более мелких элементов микросхем.
Ожидается, что разрешение оборудования вырастет более чем на треть по сравнению с существующими аналогами. Система потенциально позволит работать со структурами размером около 5 нм, что необходимо для дальнейшего повышения производительности чипов и снижения их энергопотребления.
В рамках проекта Carl Zeiss занимается созданием зеркал с повышенной точностью. ASML планирует использовать часть уже существующих технических решений, включая источник света, чтобы избежать необходимости проектировать систему освещения с нуля.
