Компания ASML совместно с партнером Carl Zeiss представила концепцию литографии нового поколения под названием Hyper NA. Разработка системы уже ведется, однако окончательное решение о запуске серийного производства еще не принято. Ожидается, что технология появится примерно через десять лет.
Новая установка обеспечит разрешение около 5 нм, что позволит формировать элементы чипов примерно на 38 процентов меньше, чем текущие системы High NA с апертурой 0,55 и разрешением 8 нм. При этом габариты будущих установок Hyper NA будут лишь незначительно превышать размеры нынешних систем, сопоставимых с двухэтажным автобусом.
На текущий момент оборудование High NA использует только Intel для техпроцесса 18A. Samsung планирует внедрить эту технологию в 2028 году, а TSMC — в 2030 году. Компания Zeiss уже приступила к созданию зеркал, обладающих необходимой для Hyper NA точностью обработки поверхностей.
Инженеры отмечают, что существующие источники света ASML могут быть адаптированы для Hyper NA без изменения конструкции системы освещения. Параллельно рассматриваются альтернативные методы, включая использование лазеров на свободных электронах, разработкой которых занимаются стартапы вроде xLight.
