Полупроводниковая индустрия критически зависит от мощностей TSMC, где производится основная часть передовых микросхем для смартфонов, компьютеров и видеокарт.
Единственным в мире поставщиком оборудования для серийного производства таких чипов является компания ASML. Технология требует использования сверхчистых помещений и экстремального вакуума.
Процесс начинается с создания монокристаллов кремния, которые нарезаются на пластины диаметром 30 см и толщиной менее 1 мм. На них с помощью фотолитографии наносятся наноразмерные узоры.
В основе метода лежит использование фоторезиста — вещества, меняющего свойства под действием света. Световой шаблон позволяет формировать транзисторы и соединительные элементы на поверхности кристалла.
Истоки технологии восходят к 1796 году, когда Алоиз Зенефельдер изобрел литографию. В 1826 году Жозеф Нисефор Ньепс получил первое устойчивое изображение, а в 1855 году Альфонс Пуатевен запатентовал фотолитографию.
В 1955 году инженеры лаборатории Diamond Ordnance Fuze Laboratories применили принципы уменьшения изображения через оптические системы для создания компактных полупроводниковых схем.
