Генеральный директор Nvidia Дженсен Хуанг предположил, что Китай сможет разработать собственные системы литографии к 2030 году. На текущий момент ведущий китайский производитель, Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE), серийно выпускает 193-нм сухие сканеры для техпроцесса 90 нм.
По имеющимся данным, компания Shanghai Aishengna Electronic Technology Group, связанная с SMEE, поставила первый иммерсионный сканер, потенциально пригодный для техпроцесса 28 нм. Однако для запуска массового производства потребуется длительная квалификация оборудования, поэтому внедрение систем до 2028–2029 годов маловероятно.
Даже при освоении 28-нм техпроцесса Китай будет значительно отставать от современных решений ASML. Еще более сложной задачей остается создание EUV-литографии: несмотря на сообщения о разработке источника плазмы с длиной волны 13,5 нм, Китай пока не представил даже прототип EUV-сканера.
Создание промышленных сканеров требует решения критических задач в области оптики, метрологии и систем позиционирования пластин. Несмотря на стремление правительства КНР к технологической независимости, промышленная реализация этих технологий остается сложной инженерной проблемой.
