Компания Langdao Silex представила прототип собственного источника излучения для EUV-литографии. По данным разработчика, 90 процентов компонентов системы произведены в Китае, а ключевые узлы спроектированы внутри компании.
Маломощная установка FlintNano LPP-OXXO использует технологию получения плазмы лазером. Приводной лазер обладает мощностью 1000 Вт, частота импульсов составляет 1–20 кГц, а эффективность преобразования энергии превышает 2 процента. Выходная мощность EUV-излучения составляет более 15 Вт.
Заявленная яркость плазмы достигает 100 Вт/(мм²·ср), размер области плазмы составляет 60 мкм, а время непрерывной работы превышает 100 часов. Стабильность плазмы оценивается в 3 процента RMS, стабильность энергии — в 5 процентов.
Серия высокомощных источников FlintMicro-LPP прошла проверку технологии, а серия FlintNano-LPP находится на стадии разработки. По оценкам Langdao Silex, до начала серийного коммерческого производства потребуется от трех до пяти лет.
Для достижения промышленных стандартов компании необходимо увеличить выходную мощность и повысить стабильность работы. Для сравнения, компания ASML достигла мощности 250 Вт в 2018 году, а в апреле 2025 года продемонстрировала источник мощностью 1000 Вт.
