Генеральный директор Nvidia Дженсен Хуанг прогнозирует, что Китай освоит передовую литографию к 2030 году. По его словам, наличие развитых мощностей для массового производства позволит стране создать собственное оборудование в ближайшие годы.
С 2019 года поставки EUV-сканеров от компании ASML в КНР запрещены. На текущий момент китайский поставщик SMEE предлагает оборудование для «сухой» литографии, позволяющее выпускать 90-нм чипы. Существуют данные о разработке сканера для 28-нм техпроцесса, однако серийные поставки такого оборудования не подтверждены.
Эксперты отмечают, что даже при внедрении 28-нм систем массовое производство чипов на них начнется не ранее 2028–2029 годов. Достижение паритета с ASML в области DUV-литографии к 2030 году маловероятно, а в сегменте EUV-систем отставание еще значительнее из-за отсутствия рабочих прототипов.
