Стартап Langdao Silex, основанный в 2024 году выпускниками Университета Цинхуа, представил прототип источника EUV-излучения FlintNano LPP-OXXO на 26-й Китайской международной промышленной выставке. Система использует технологию лазерно-плазменной генерации с мощностью лазера 1000 Вт и коэффициентом преобразования более 2%.
Заявленная мощность EUV-излучения превышает 15 Вт при яркости 100 Вт/(мм²·ср). Компания утверждает, что система способна работать непрерывно более 100 часов со стабильностью плазмы 3% RMS и стабильностью выходной мощности 5%. По данным разработчика, 90% компонентов прототипа произведены внутри страны.
Langdao также ведет разработку более мощного источника FlintMicro-LPP, который прошел проверку концепции. Текущие характеристики не позволяют использовать систему в массовом производстве чипов, однако она может применяться в исследованиях фоторезистов, масок и оптических систем для литографии.
Эксперты отмечают, что показатель 15 Вт измерен непосредственно в плазме, а не в промежуточном фокусе, как принято в индустрии. Достижение параметров для серийного производства остается сложной задачей, так как в Китае на данный момент отсутствует необходимая цепочка поставок для создания полноценных EUV-сканеров.
