Китайский стартап Langdao Silex представил FlintNano LPP-OXXO — первый отечественный источник лазерного излучения для EUV-литографии. Система использует метод лазерно-плазменной генерации для создания излучения, необходимого при производстве передовых чипов. По данным разработчика, около 90% компонентов установки произведены или разработаны внутри страны.
Технические характеристики FlintNano включают управляющий лазер мощностью 1000 Вт с частотой повторения импульсов от 1 до 20 кГц. Установка обеспечивает мощность EUV-излучения более 15 Вт при коэффициенте преобразования свыше 2%. Заявленное время непрерывной работы оборудования превышает 100 часов. Прототип предназначен для тестирования экспонирования пластин, но требует доработки.
Создание источника света является лишь частью процесса разработки полноценного EUV-сканера. Для работы системы также необходимы прецизионная оптика и механизмы позиционирования пластин. Напомним, что поставки EUV-инструментов в Китай запрещены с 2019 года из-за экспортных ограничений, введенных правительством Нидерландов под давлением США.
