Генеральный директор Nvidia Дженсен Хуанг прогнозирует, что Китай сможет разработать собственное передовое литографическое оборудование к 2030 году. По его оценке, сильная промышленная база позволит стране существенно снизить зависимость от зарубежных технологий в ближайшие годы.
На текущий момент нидерландская компания ASML является лидером в производстве передовых литографов, однако поставки EUV-систем и современных DUV-установок в Китай запрещены. Эти ограничения остаются серьезным вызовом для развития местной полупроводниковой отрасли.
Крупнейшим разработчиком такого оборудования в Китае выступает компания Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE). Она серийно выпускает установки для 90-нанометровых техпроцессов. Параллельно страна развивает иммерсионную DUV-литографию, потенциально пригодную для работы с техпроцессами около 28 нм.
Разработка работоспособного оборудования требует длительной квалификации на фабриках производителей чипов. Если первые системы начали поступать на китайские предприятия в 2026 году, то их полноценное внедрение в серийное производство, вероятно, произойдет в период с 2028 по 2029 год.
