Китай работает над созданием отечественных литографических систем DUV для обхода экспортных ограничений на сканеры ASML. Шанхайская компания Yuliangsheng, созданная при участии стартапа SiCarrier, разработала прототип DUV-системы. Это оборудование сейчас тестируют Huawei и контрактный производитель чипов SMIC.
SMIC тестирует систему для изготовления 28-нм чипов и пытается приспособить её для производства 7-нм компонентов при помощи множественных фотошаблонов. Yuliangsheng при поддержке SMEE создает прототипы с разным составом компонентов: часть из них импортные, а часть — китайские альтернативы. По данным источников, в прототипах используются компоненты Zeiss, закупленные на вторичном рынке Китая.
Huawei выступает в роли координатора общенациональных усилий по созданию оптики и лазерных источников. Через инвестиционное подразделение Habo и фонд Shenzhen Yuanzhi Xinghuo компания вкладывает средства в Fujian Zhiqi Photonics, которая разрабатывает высокоточные оптические компоненты для замены решений Zeiss. Производитель выделился из состава Castech в 2022 году.
Для решения проблем с лазерными источниками Huawei инвестирует в пекинскую RSLaser Opto-Electronics, которая поставляет источники света для китайских DUV-систем. RSLaser ранее поставляла оборудование для DUV-систем предыдущих поколений от SMEE. До конца текущего года Yuliangsheng должна выпустить 12 литографических сканеров класса DUV.
Несмотря на разработки, китайские производители чипов в массовом производстве полагаются на оборудование ASML, закупленное до введения ограничений. Производители памяти CXMT и YMTC имеют трехлетний запас такого оборудования. Эксперты Bernstein и западные участники рынка считают, что китайские аналоги отстают от зарубежных образцов минимум на 15 лет.