Компания ASML продолжает развивать технологию литографии на основе лазерно-плазменных источников (LPP). В текущих системах импульсы CO2-лазера воздействуют на капли расплавленного олова диаметром около 30 микрон. Это создает излучение с длиной волны 13,5 нм, которое направляется через вакуумную оптическую систему с использованием отражающих зеркал.
Производитель уже увеличил мощность источников LPP с 250 Вт до 500 Вт. В ближайшие годы компания планирует довести этот показатель до 1000 Вт. Также предусмотрено увеличение частоты генерации капель олова до 100 000 в секунду.
Альтернативная технология лазеров на свободных электронах (FEL) рассматривается как способ повышения мощности EUV-излучения, однако она требует создания сложных ускорителей частиц и систем распределения лучей. ASML сохраняет приверженность текущим LPP-решениям, учитывая их отработанную надежность и эффективность в условиях реального производства.
По оценкам экспертов, внедрение FEL в полупроводниковую индустрию займет не менее десяти лет. Разработка таких систем потребует многомиллиардных инвестиций, что создает высокие финансовые риски для компаний, пытающихся конкурировать с текущими стандартами производства чипов.
