Компания ASML, контролирующая около 94% рынка литографических сканеров, столкнулась с дефицитом мощностей на фоне бума ИИ. Все EUV-системы стоимостью по $200 млн каждая уже распределены между заказчиками до конца 2027 года. Для увеличения объемов выпуска компания начала строительство нового завода в Нидерландах.
Растет спрос на оборудование следующего поколения High-NA EUV стоимостью свыше $400 млн за установку. Оно позволяет уменьшить полупроводниковые структуры на 40%. Intel уже обработала на таких системах 1 млн кремниевых пластин диаметром 300 мм, а TSMC планирует начать их использование в 2030 году.
Производители памяти Samsung Electronics и SK hynix намерены внедрить High-NA оборудование к 2028 году из-за потребности в более компактных чипах. Micron Technology также заказала образцы систем, но сроки их массового применения пока не определены. На текущий момент ASML остается единственным производителем EUV-сканеров.
