ASML и ZEISS раскрыли детали разработки литографических систем Hyper NA EUV
ASML и ZEISS планируют выпустить литографические системы Hyper NA EUV с апертурой 0,75 и разрешением 5 нм в течение 10 лет, назвав малую глубину резкости главным техническим барьером.













