Samsung Foundry планирует до конца года выпустить второе поколение 8-нанометрового техпроцесса — 8LPU+. По сравнению с предыдущей версией 8LPU, новая платформа обеспечивает прирост производительности на 12%, снижение энергопотребления на 15% и уменьшение логической площади чипа примерно на 8%.
Технология ориентирована на использование существующих линий глубокого ультрафиолета (DUV), которые уже прошли амортизацию. Это позволяет компании избежать затрат на дорогостоящее оборудование для экстремального ультрафиолета (EUV), поставки которого ограничены и требуют значительных капиталовложений.
Процесс нацелен на производство микроконтроллеров (MCU) для ИИ и зональных контроллеров (ZCU) для автомобилей. В этих сегментах ключевыми показателями являются стабильность поставок, работа в широком диапазоне температур и стоимость, а не пиковая вычислительная мощность.
Для миниатюризации чипов платформа 8LPU+ интегрирует 3.3В планарные устройства ввода-вывода, что сокращает их площадь на 10%. Также внедрены компоненты с ультранизким током утечки (ULL-SRAM) и устройства с высоким пороговым напряжением (cHVT) для снижения энергопотребления в режиме ожидания.
Встроенная магнитная память (eMRAM) соответствует автомобильному стандарту первого уровня (AG1). Она имеет площадь ячейки 0,017 мкм² и плотность хранения около 20 Мбит/мм². Это позволяет уменьшить габариты контроллеров, сохраняя при этом больше данных в том же объеме.
