Компания Samsung представила обновленный 8-нм техпроцесс 8LPU+. В отличие от современных норм 5, 4 и 2 нм, новая платформа не требует дорогостоящих EUV-сканеров и использует DUV-литографию с иммерсией.
Согласно предварительным данным, переход на 8LPU+ обеспечит прирост производительности до 12 %, снижение энергопотребления на 15 % и уменьшение площади логической части кристалла на 8 %.
Технология ориентирована на заказчиков, для которых важны низкая себестоимость и надежность компонентов. Платформу планируют применять в автомобильных контроллерах, робототехнике и системах ИИ.
Инженеры интегрировали планарные устройства ввода-вывода на 3,3 В, что сокращает площадь цепей на 10 %. Для снижения энергопотребления в режиме ожидания добавлены транзисторы cHVT и память ULL-SRAM.
В состав 8LPU+ также включена магниторезистивная память eMRAM. Она отличается высокой устойчивостью к температурным колебаниям и большим числом циклов перезаписи, что востребовано в автопроме.
