Зеленоградский центр ZNTC завершил создание прототипа отечественной фотолитографической системы для техпроцесса 130 нм. Программа разработки получила финансирование от Минпромторга РФ в размере около $70 млн. В создании оборудования участвовали белорусская компания Planar, отвечавшая за механические узлы, и фирма Lassard, разработавшая лазерные источники.
Стоимость одного степпера ZNTC оценивается в $6,7 млн, еще $600 тыс. приходится на лазер, что доводит цену устройства до $7,3 млн. Система рассчитана на работу с 200-мм пластинами. Для сравнения, стоимость аналогичного оборудования ASML модели PAS 5500/150, выпущенного в 2001 году, с учетом инфляции составила бы около $5,8 млн.
Прототип был представлен с задержкой в пять месяцев и сейчас проходит внутренние испытания. ZNTC предстоит завершить проектирование и валидацию всех параметров, включая точность совмещения и надежность. По оценкам экспертов, до начала серийного производства чипов на этом оборудовании пройдет еще несколько лет, а коммерческое использование возможно не ранее 2029 года.
Хотя техпроцесс 130 нм был освоен мировыми лидерами индустрии, такими как Intel и AMD, еще в начале 2000-х годов, данный проект является важным этапом для развития инженерных компетенций. Сейчас ZNTC занимается отработкой технологических процессов, включая подбор фоторезистов и масок, необходимых для полноценного внедрения системы в производственные циклы.
