Компания Gigaphoton представила систему рециркуляции неонового газа для ArF-лазеров, применяемых в литографии полупроводников. По заявлению разработчика, установка позволяет сократить потребление неона на 470 килолитров в год на один аппарат, что снижает затраты на материалы и зависимость производителей от глобальных цепочек поставок.
Система обеспечивает уровень переработки неона в 50%. Этот показатель соответствует эффективности решений Cymer, представленных еще в 2015 году. При этом в 2017 году внутренние тесты Gigaphoton показывали возможность достижения уровня рекуперации для ArF-лазеров свыше 90%.
На рынке появляются и другие решения: японская компания Kanken Techno на выставке SemiCon Taiwan продемонстрировала систему рециркуляции с эффективностью более 90%. Сейчас технология проходит процесс сертификации для работы с оборудованием ведущих производителей лазеров.
На литографию приходится около 70% мирового потребления неона, в основном в процессах DUV. После остановки поставок из Украины в 2022 году, такие компании, как Samsung и SK Hynix, начали внедрять системы восстановления газа непосредственно на своих фабриках в 2024 году.
В долгосрочной перспективе отрасль рассматривает отказ от использования неона. Разрабатываются альтернативные технологии, включая твердотельные лазеры и наноимпринтную литографию, которая потенциально может снизить производственные расходы на 90% и исключить потребность в инертных газах.
