Железо
В Университете Лобачевского создали технологию очистки материалов для производства чипов
Ученые Университета Лобачевского запатентовали технологию очистки диоксида кремния для производства полировальных суспензий, используемых в микроэлектронике.
16 октября 2026 г., 20:46·iXBT.com
